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J-GLOBAL ID：201102296734403810   整理番号：11A1501625

フェムト秒レーザービーム照射によってシリカ表面に形成されるナノグレーテイング構造形成メカニズムの検討

著者 (5件)： 旭秀典 (北大 電子科研) ,  SUN Quan (北大 電子科研) ,  上野貢生 (北大 電子科研) ,  上野貢生 (JST-さきがけ) ,  三澤弘明 (北大 電子科研)
資料名： 光化学討論会講演要旨集  (Annual Meeting on Photochemistry)
巻： 2011  ページ： 43  発行年： 2011年09月01日 
JST資料番号： L0850A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *表面構造 ,  *ナノ構造 ,  *構造形成 ,  *パルスレーザ照射 ,  フェムト秒 ,  集光 ,  円偏光 ,  走査電子顕微鏡 ,  電子顕微鏡観察 ,  *石英ガラス ,  *二酸化ケイ素 ,  *構造
準シソーラス用語： *シリカ

分類 (3件)： 光化学一般  (CB08010U) ,  固-気界面一般  (CB12041H) ,  合成鉱物  (CD01040K)

タイトルに関連する用語 (5件)： フェムト秒 ,  レーザービーム照射 ,  シリカ ,  構造形成 ,  メカニズム