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J-GLOBAL ID：201102297556853625   整理番号：11A0179698

プロトンビーム描画による光導波路デバイス形成の基礎検討

Fabrication of PMMA Waveguide Devices Using Focused Proton Beam

著者 (15件)： 三浦健太 (群馬大 大学院工学研究科) ,  佐藤隆博 (日本原子力研究開発機構) ,  江夏昌志 (日本原子力研究開発機構) ,  石井保行 (日本原子力研究開発機構) ,  高野勝昌 (日本原子力研究開発機構) ,  大久保猛 (日本原子力研究開発機構) ,  加田渉 (日本原子力研究開発機構) ,  山崎明義 (日本原子力研究開発機構) ,  横山彰人 (日本原子力研究開発機構) ,  神谷富裕 (日本原子力研究開発機構) ,  上原政人 (群馬大 大学院工学研究科) ,  桐生弘武 (群馬大 大学院工学研究科) ,  佐々木友之 (群馬大 大学院工学研究科) ,  花泉修 (群馬大 大学院工学研究科) ,  西川宏之 (芝浦工大)
資料名： 電子情報通信学会技術研究報告  (IEICE Technical Report (Institute of Electronics, Information and Communication Engineers))
巻： 110  号： 352(OPE2010 131-143)  ページ： 27-30  発行年： 2010年12月10日 
JST資料番号： S0532B  ISSN： 0913-5685  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： プロトンビーム描画(Proton Beam Writing:PBW)は,次世代の微細加工技術として注目されているが,PMMAへのプロトン照射による屈折率向上効果を利用することによって,光導波路形成への応用も可能である。我々は,これまでに,PBWを利用してPMMA直線導波路を試作し,波長1.55μmのシングルモード伝搬を確認しているが,今回我々は,導波実験からシングルモード条件の特定を試み,更にY分岐導波路の描画及び基本動作の確認を行ったので,報告する。(著者抄録)

シソーラス用語： *陽子ビーム ,  *光導波路 ,  *微細加工 ,  *ポリメタクリル酸メチル ,  陽子照射 ,  屈折率 ,  分岐導波管 ,  *単一モード ,  光スイッチ

分類 (1件)： 光導波路,光ファイバ,繊維光学  (BD06030H)

引用文献 (11件)：

• WATANABE, K. Extremely-low-power-consumption thermo-optic switch with silicon-silica hybrid structure. NTT Technical Review. 2010, 8, 2, 1-5
• HANAIZUMI, O. Mach-Zehnder type thermo-optic switch with antenna-coupled Y-junction fabricated by selective photobleaching of polysilane films. Key Engineering Materials. 2011, 459, 153-156
• XIE, N. Very low-power, polarization-independent, and high-speed polymer thermooptic switch. IEEE Photon. Technol. Lett. 2009, 24, 24, 1861-1863
• RAJTA, I. Refractive index depth profile in PMMA due to proton irradiation. Nucl. Instr. and Meth. B. 2007, 260, 1, 400-404
• SUM, T. C. Proton beam writing of passive waveguides in PMMA. Nucl. Instr. and Meth. B. 2003, 210, 1, 266-271

タイトルに関連する用語 (3件)： プロトンビーム描画 ,  光導波路デバイス ,  基礎