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J-GLOBAL ID：201102297766918967   整理番号：11A0902588

光硬化性蛍光レジストによる光ナノインプリントプロセスでの成型不良の発生機構の解明

著者 (8件)： 小林敬 (東北大 多元物質科研) ,  小林敬 (JST-CREST) ,  久保祥一 (東北大 多元物質科研) ,  久保祥一 (JST-CREST) ,  松井真二 (JST-CREST) ,  松井真二 (兵庫県大 高度研) ,  中川勝 (東北大 多元物質科研) ,  中川勝 (JST-CREST)
資料名： 化学系学協会東北大会プログラムおよび講演予稿集  (化学系学協会東北大会講演予稿集)
巻： 2010  ページ： 128  発行年： 2010年09月25日 
JST資料番号： L1356A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *パターン転写 ,  *光架橋 ,  *蛍光 ,  *フォトレジスト ,  大量生産 ,  反応機構 ,  蛍光浸透検査 ,  表面構造 ,  表面反応 ,  *表面欠陥
準シソーラス用語： *光ナノインプリント ,  *光硬化 ,  成形不良

分類 (3件)： その他の無触媒反応  (CB06070U) ,  固体デバイス製造技術一般  (NC03030V) ,  光化学一般  (CB08010U)

タイトルに関連する用語 (6件)： 光硬化 ,  蛍光 ,  レジスト ,  光ナノインプリント ,  プロセス ,  成型不良