特許
J-GLOBAL ID：201103000089426522
アクティブマトリクス基板の製造方法、中間転写基板
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
外川 英明
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-179214
公開番号（公開出願番号）：特開2001-007340
特許番号：特許第3447619号
出願日： 1999年06月25日
公開日（公表日）： 2001年01月12日
請求項（抜粋）：
【請求項1】素子形成基板上に素子を形成する工程と、転写先基板上に配線を形成する工程と、中間転写基板上の前記各素子に対応する位置に光吸収体を形成する工程と、前記光吸収体を形成した前記中間転写基板上に接着・剥離層を形成する工程と、前記光吸収体と前記素子とを位置合せして、前記素子を前記接着・剥離層に接着する工程と、前記素子を前記接着・剥離層に接着した後に前記素子形成基板を除去する工程と、前記素子形成基板を除去した後に前記接着・剥離層に接着された前記素子を前記転写先基板上に設けられた接着層に選択的に接着する工程と、前記接着層に選択的に接着された前記素子に対応する前記光吸収体に光を照射して前記中間転写基板を剥離する工程とを具備することを特徴とするアクティブマトリクス基板の製造方法。
IPC (3件)：
H01L 21/336
, G02F 1/1368
, H01L 29/786
G02F 1/1368
, H01L 29/78 627 D
