特許
J-GLOBAL ID：201103000839707677

ホトレジスト用剥離液およびこれを用いたホトレジスト剥離方法

発明者：
脇屋 和正

脇屋 和正 について

, 
小林 政一

小林 政一 について


出願人/特許権者：
東京応化工業株式会社

東京応化工業株式会社 について


代理人 (1件)： 長谷川 洋子
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-375267
公開番号（公開出願番号）：特開2001-188363
特許番号：特許第3514435号
出願日： 1999年12月28日
公開日（公表日）： 2001年07月10日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 実質的に(a)含窒素有機ヒドロキシ化合物を10〜65重量%、(b)水溶性有機溶媒を10〜60重量%、(c)水を5〜50重量%、および(d)下記一般式(I);;化1::〔式中、Qは水素原子、水酸基、置換若しくは非置換の炭素原子数1〜10の炭化水素基(ただし、その構造中にアミド結合、エステル結合を有していてもよい)、アリール基、または下記化2;;化2::(化2中、R3は炭素原子数1〜6のアルキル基を示し;R4、R5は、それぞれ独立に、水素原子、水酸基、または炭素原子数1〜6のヒドロキシアルキル基若しくはアルコキシアルキル基を示す)で表される基を示し;R1、R2は、それぞれ独立に水素原子、置換若しくは非置換の炭素原子数1〜10の炭化水素基、カルボキシル基、アミノ基、水酸基、シアノ基、ホルミル基、スルホニルアルキル基、またはスルホ基を示す〕で表されるベンゾトリアゾール系化合物を0.1〜10重量%、からなるホトレジスト用剥離液。
IPC (3件)：
G03F 7/42 ,  H01L 21/027 ,  H01L 21/304 647
FI (3件)：
G03F 7/42 ,  H01L 21/304 647 A ,  H01L 21/30 572 B
引用特許：
審査官引用 (4件)
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