特許

J-GLOBAL ID：201103000973852586

プラズマ処理装置

発明者： 田村 智行 ,  高橋 主人 ,  末広 満 ,  増田 俊夫 ,  福山 良次
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所
代理人 (1件)： 作田 康夫
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-232130
公開番号（公開出願番号）：特開2001-057361
特許番号：特許第3422292号
出願日： 1999年08月19日
公開日（公表日）： 2001年02月27日
請求項（抜粋）：

【請求項1】真空排気手段と、原料ガス供給手段と、前記原料ガス供給手段から供給される原料ガスをプラズマ化する手段と、被加工試料を設置する手段と、前記被加工試料を処理するプラズマ処理室とを有するプラズマ処理装置において、温度調節手段を有した側壁インナーユニットを前記プラズマ処理室の円筒形側壁の内壁に交換可能に設け、樹脂材料からなる側壁スリーブを前記側壁インナーユニットの内面に交換可能に密着させたことを特徴とするプラズマ処理装置。

IPC (3件)：

H01L 21/3065 ,  C23F 4/00 ,  H05H 1/46

FI (3件)：

C23F 4/00 A ,  H05H 1/46 M ,  H01L 21/302 101 H

引用特許：

審査官引用 (3件)

• ライナー用樹脂成形体
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-150137   出願人：イー・アイ・デュポン・ドウ・ヌムール・アンド・カンパニー
• プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-007991   出願人：株式会社日立製作所
• プラズマ処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-022736   出願人：東京エレクトロン株式会社