特許
J-GLOBAL ID:201103001157207741

塗布液供給装置および該装置を用いた塗布装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (3件): 吉田 茂明 ,  吉竹 英俊 ,  有田 貴弘
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-265388
公開番号(公開出願番号):特開2003-071363
特許番号:特許第3819270号
出願日: 2001年09月03日
公開日(公表日): 2003年03月11日
請求項(抜粋):
【請求項1】 被処理体の表面に先端部を臨ませて、該先端部に形成した吐出口から塗布液を吐出して被処理体の表面に塗布液を供給するノズルと、 該ノズルの不使用時に該ノズルの先端部を溶剤雰囲気中で待機させる待機容器とからなる塗布液供給装置において、 前記ノズルと前記待機容器とにより前記先端部の待機空間を形成するとともに、 前記ノズルと前記待機容器の結合部に、前記待機空間の気密を維持するための気密手段を設け、 前記気密手段は、前記待機容器の開口を閉塞し、前記ノズルの吐出口近傍が挿入可能な開口が形成された可撓性を有するシート材であるシール部材にて前記待機容器の開口を閉塞してなり、 前記ノズルの先端部は、下に向かって細くなっており、 前記ノズルの吐出口近傍が前記シール部材の開口に挿入されて前記ノズルの先端部の中ほどと前記シール部材の開口とが当接したときに、前記シール部材の少なくとも開口が下方に曲がることを特徴とする塗布液供給装置。
IPC (2件):
B05C 11/00 ( 200 6.01) ,  B05C 5/02 ( 200 6.01)
FI (2件):
B05C 11/00 ,  B05C 5/02
引用特許:
出願人引用 (6件)
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審査官引用 (6件)
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