特許
J-GLOBAL ID：201103001583582258

ヒドロキシフェニルシクロヘキサノン誘導体の製造方法

発明者：
杉 山 健 司

杉 山 健 司 について

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北 浦 豊 和

北 浦 豊 和 について

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川 崎 進 作

川 崎 進 作 について

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江 川 健 志

江 川 健 志 について


出願人/特許権者：
本州化学工業株式会社

本州化学工業株式会社 について


代理人 (4件)： 鈴木 俊一郎 ,  牧村 浩次 ,  高畑 ちより ,  鈴木 亨
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-201959
公開番号（公開出願番号）：特開2001-031614
特許番号：特許第3963613号
出願日： 1999年07月15日
公開日（公表日）： 2001年02月06日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 下記一般式[I] [式中、R1 、R2 は、それぞれ独立に、水素原子または炭素原子数1〜6のアルキル基であり、 mおよびnは、それぞれ0〜2の整数であり、同一または異なる整数である]で表わされる置換ビフェノール類の水素化を、担体に10〜30重量%のパラジウムのみが担持されたパラジウム触媒の存在下(ただし、助触媒の存在下を除く)に、炭素原子数3以上の1価飽和アルコールである有機溶媒中で行なうことにより、下記一般式[II] [式中、R1 、R2 、mおよびnは、それぞれ上記一般式[I]の、R1 、R2 、m、nと同義である]で表わされるヒドロキシフェニルシクロヘキサノン誘導体を得ることを特徴とするヒドロキシフェニルシクロヘキサノン誘導体の製造方法。
IPC (5件)：
C07C 45/62 ( 200 6.01) ,  C07C 45/29 ( 200 6.01) ,  B01J 23/44 ( 200 6.01) ,  C07C 49/747 ( 200 6.01) ,  C07B 61/00 ( 200 6.01)
FI (5件)：
C07C 45/62 ,  C07C 45/29 ,  B01J 23/44 Z ,  C07C 49/747 B ,  C07B 61/00 300
引用特許：
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (4件)
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