特許

J-GLOBAL ID：201103001982624223

基板処理装置

発明者： 竹熊 貴志
出願人/特許権者： 東京エレクトロン株式会社
代理人 (1件)： 井上 俊夫 (外1名)
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-143424
公開番号（公開出願番号）：特開2000-331922
特許番号：特許第3462426号
出願日： 1999年05月24日
公開日（公表日）： 2000年11月30日
請求項（抜粋）：

【請求項1】 複数の基板を収納した基板カセットを載置する載置部とこの載置部に載置された基板カセットに対して基板の受け渡しをする受け渡し手段とを含むカセットステ-ションと、第1の処理ブロックと、第3の処理ブロックと、露光ブロックと、をこの順で横方向に配列して構成され、前記第1の処理ブロックは前記カセットステ-ションから搬送された基板に対して第1の処理を行い、第3の処理ブロックは前記露光ブロックにて露光が行われた基板に対して第3の処理を行い、露光ブロックは前記第1の処理が行われた基板に対して露光を行うものである基板処理装置において、前記基板カセットから受け渡し手段により取り出された基板を前記第1の処理ブロック内で搬送するための第1の主搬送手段と、前記露光が行われた基板を前記第3の処理ブロック内で搬送するための第3の主搬送手段と、前記第1の処理ブロックにて第1の処理がされた基板を前記第3の主搬送手段の搬送領域の外側の領域を通って露光ブロックに搬送する往路移送手段と、を備えたことを特徴とする基板処理装置。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  H01L 21/68

FI (2件)：

H01L 21/68 A ,  H01L 21/30 502 J

引用特許：

出願人引用 (3件)

• 処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-142738   出願人：東京エレクトロン株式会社
• 基板処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-066325   出願人：大日本スクリーン製造株式会社
• 処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-176892   出願人：東京エレクトロン株式会社

審査官引用 (1件)

• 処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-142738   出願人：東京エレクトロン株式会社