特許
J-GLOBAL ID：200903041339416706

処理装置

発明者：
吉岡 和敏

吉岡 和敏 について


出願人/特許権者：
東京エレクトロン株式会社

東京エレクトロン株式会社 について


代理人 (1件)： 須山 佐一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-142738
公開番号（公開出願番号）：特開平10-335220
出願日： 1997年05月30日
公開日（公表日）： 1998年12月18日
要約：
【要約】【課題】 レジスト塗布ユニットや現像ユニット等の液処理系の処理ユニットが、外部からの熱影響を受けてその処理特性に変動が生じることのない処理装置を実現する。【解決手段】 各種の制御回路や電源用回路等を実装したプリント基板を収納した回路ボックス51を、レジスト塗布ユニット(COT)や現像ユニット(DEV)等の液処理系の処理ユニットを除く領域の上方に配置する。これにより、レジスト塗布及び現像処理にて受ける回路ボックス51からの熱影響を最小に抑えることが可能となり、歩留りの向上を図ることができる。
請求項（抜粋）：
被処理基板を処理する複数の第1の処理ユニットと、被処理基板を処理液を用いて処理する第2の処理ユニットと、前記各第1の処理ユニットに対して前記被処理基板の出し入れを行う第1の搬送ユニットと、前記各第1の処理ユニットを挟んで前記第1の搬送ユニットと対向する位置に設けられ、前記各第1の処理ユニットのうちの一部のユニット及び前記第2の処理ユニットに対して前記被処理基板の出し入れを行う第2の搬送ユニットと、前記第2の処理ユニットを除く領域の上方に配置された制御用の電子部品群とを具備することを特徴とする処理装置。
IPC (2件)：
H01L 21/027 ,  H01L 21/68
FI (2件)：
H01L 21/30 561 ,  H01L 21/68 A
引用特許：
審査官引用 (22件)
  • 処理装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-315403   出願人：東京エレクトロン株式会社, 東京エレクトロン九州株式会社
  • 基板収納カセット、インターフェイス機構および基板処理装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-249748   出願人：大日本スクリーン製造株式会社
  • 基板搬送装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-251913   出願人：大日本スクリーン製造株式会社
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