特許
J-GLOBAL ID：200903089461892759

処理装置

発明者：
立山 清久

立山 清久 について


出願人/特許権者：
東京エレクトロン株式会社

東京エレクトロン株式会社 について


代理人 (1件)： 須山 佐一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-176892
公開番号（公開出願番号）：特開平11-026541
出願日： 1997年07月02日
公開日（公表日）： 1999年01月29日
要約：
【要約】【課題】 クリーンルーム内に設置した場合にデッドスペースを生じさせることなくクリーンルームを効率良く利用できる処理装置を提供する。【解決手段】 カセットキャリア10の長手方向と直交する方向に、互いに平行に配置された2本の搬送路25及び27が配設されている。搬送路25の両側には処理部21aと21b、及び22a〜22cが搬送路25に沿ってそれぞれ配置されており、搬送路27の両側には処理部23aと23b、及び処理部24a〜24cが搬送路27に沿って配置されている。これらの処理部21aと21b、22a〜22c、23aと23b、及び24a〜24cはそれぞれ一組の処理ユニットを形成し、処理ステーション10には合計4組の処理ユニット21〜24が一端をカセットキャリア10に接しながら互いに平行に配設されている。処理ユニットの数を増やして処理ステーション20の幅を大きくし、カセットキャリア10の長手方向の寸法と一致させて処理装置全体が長方形となるようにした。
請求項（抜粋）：
互いにほぼ平行に配置された2つ以上の搬送路と、前記各搬送路に沿って配置された処理部と、各搬送路に対し被処理体を搬出入する搬出入手段と、前記各搬送路を介して被処理体を各処理部及び前記搬出入手段に対して搬送する搬送機構とを具備することを特徴とする処理装置。
IPC (4件)：
H01L 21/68 ,  G03F 7/16 501 ,  G03F 7/30 501 ,  H01L 21/027
FI (4件)：
H01L 21/68 A ,  G03F 7/16 501 ,  G03F 7/30 501 ,  H01L 21/30 502 J
引用特許：
審査官引用 (4件)
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