特許
J-GLOBAL ID:201103002134510087

濃アルキル・シルアルキレン含有残渣におけるシルアルキレンの再分配法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): ウオーレン・ジー・シミオール
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-341536
公開番号(公開出願番号):特開2000-159779
特許番号:特許第4485631号
出願日: 1999年12月01日
公開日(公表日): 2000年06月13日
請求項(抜粋):
【請求項1】 濃アルキル・シルアルキレン含有残渣を、有効量の再分配触媒から成る触媒の存在下で150°C〜500°Cの温度においてアルキルトリハロシラン及びテトラハロシランから選択したハロシランと接触させて、ジアルキルジハロシランから成る再分配生成物を生成させる工程からなることを特徴とする濃アルキル・シルアルキレン含有残渣の再分配法。
IPC (1件):
C07F 7/12 ( 200 6.01)
FI (1件):
C07F 7/12 H
引用特許:
審査官引用 (5件)
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