特許
J-GLOBAL ID:201103002301165273
フェニル環及びラクトン基が共存する感光性ポリマー及びレジスト組成物
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (5件):
八田 幹雄
, 野上 敦
, 奈良 泰男
, 齋藤 悦子
, 宇谷 勝幸
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-386341
公開番号(公開出願番号):特開2002-201223
特許番号:特許第3990150号
出願日: 2001年12月19日
公開日(公表日): 2002年07月19日
請求項(抜粋):
【請求項1】 下記式(2):
ただし、R1、R2及びR3は、それぞれ独立して、水素原子またはアルキル基を表わし、ならびに、l、m及びnは、それぞれ、l/(l+m+n)=0.1〜0.5、m/(l+m+n)=0〜0.5、及びn/(l+m+n)=0.4〜0.7の関係を満たす
の構造を有することを特徴とする感光性ポリマー。
IPC (4件):
C08F 20/30 ( 200 6.01)
, C08F 12/22 ( 200 6.01)
, G03F 7/039 ( 200 6.01)
, H01L 21/027 ( 200 6.01)
FI (4件):
C08F 20/30
, C08F 12/22
, G03F 7/039 601
, H01L 21/30 502 R
引用特許:
審査官引用 (7件)
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新規ポリマー
公報種別:公開公報
出願番号:特願平10-360046
出願人:和光純薬工業株式会社, 松下電器産業株式会社
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新規ポリマー
公報種別:公開公報
出願番号:特願平9-035572
出願人:和光純薬工業株式会社
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新規なレジスト材料及びパタ-ン形成方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平4-173830
出願人:和光純薬工業株式会社
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