特許
J-GLOBAL ID:201103002610330653

低Si溶銑の製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (2件): 小杉 佳男 ,  山田 正紀
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-092076
公開番号(公開出願番号):特開2000-282111
特許番号:特許第3700458号
出願日: 1999年03月31日
公開日(公表日): 2000年10月10日
請求項(抜粋):
【請求項1】鉱石とコークスとからなる原料のうち、少なくとも鉱石を、炉頂に設けられた装入シュートを旋回させつつ炉中心部から炉壁方向に傾動させて装入する高炉での低Si溶銑の製造方法において、前記鉱石の1チャージ分を2バッチ以上に分割し、分割された一つのバッチを高CaO含有物質と混合したバッチとなし、該バッチを、炉内を炉半径方向に炉中心部、炉壁部の2領域に区分したうちの炉壁部へ装入することを特徴とする低Si溶銑の製造方法。
IPC (1件):
C21B 5/00
FI (2件):
C21B 5/00 311 ,  C21B 5/00 310
引用特許:
出願人引用 (3件) 審査官引用 (3件)

前のページに戻る