特許
J-GLOBAL ID：201103002823057357

無機粒子集合体およびガス拡散電極の製造方法

発明者：
熊谷 等

熊谷 等 について

, 
坂本 淑幸

坂本 淑幸 について


出願人/特許権者：
株式会社豊田中央研究所

株式会社豊田中央研究所 について


代理人 (1件)： 特許業務法人セントクレスト国際特許事務所
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-240339
公開番号（公開出願番号）：特開2011-086572
出願日： 2009年10月19日
公開日（公表日）： 2011年04月28日
要約：
【課題】ガス拡散性に優れ、しかも高い触媒活性を有する無機粒子集合体の製造方法を提供すること。【解決手段】官能基を有する第一の有機配位子により表面修飾された第一の無機粒子を調製する工程と、 前記第一の有機配位子の官能基と化学反応により結合し得る官能基を有する第二の有機配位子により表面修飾された第二の無機粒子を調製する工程と、 前記第一の有機配位子により表面修飾された第一の無機粒子と前記第二の有機配位子により表面修飾された第二の無機粒子とを混合する工程と、 前記第一の有機配位子の官能基と前記第二の有機配位子の官能基とを化学反応により結合させる工程と、を含むことを特徴とする無機粒子集合体の製造方法。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
官能基を有する第一の有機配位子により表面修飾された第一の無機粒子を調製する工程と、 前記第一の有機配位子の官能基と化学反応により結合し得る官能基を有する第二の有機配位子により表面修飾された第二の無機粒子を調製する工程と、 前記第一の有機配位子により表面修飾された第一の無機粒子と前記第二の有機配位子により表面修飾された第二の無機粒子とを混合する工程と、 前記第一の有機配位子の官能基と前記第二の有機配位子の官能基とを化学反応により結合させる工程と、 を含むことを特徴とする無機粒子集合体の製造方法。
IPC (3件)：
H01M 4/86 ,  C01B 13/14 ,  C01G 9/02
FI (3件)：
H01M4/86 T ,  C01B13/14 A ,  C01G9/02 B
Fターム (22件)：
4G042DA03 ,  4G042DB28 ,  4G042DC03 ,  4G042DD06 ,  4G042DE08 ,  4G042DE14 ,  4G047AA07 ,  4G047AB02 ,  4G047AC03 ,  4G047AD03 ,  5H018AA06 ,  5H018BB08 ,  5H018BB16 ,  5H018DD08 ,  5H018EE11 ,  5H018EE12 ,  5H018EE16 ,  5H026AA06 ,  5H026BB10 ,  5H026EE11 ,  5H026EE12 ,  5H026EE17
引用特許：
審査官引用 (9件)
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