特許
J-GLOBAL ID：201103002853130962

パターン形成方法

発明者：
生方 俊

生方 俊 について

, 
横山 泰

横山 泰 について


出願人/特許権者：
国立大学法人横浜国立大学

国立大学法人横浜国立大学 について


代理人 (2件)： 赤尾 謙一郎 ,  下田 昭
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-107032
公開番号（公開出願番号）：特開2011-237508
出願日： 2010年05月07日
公開日（公表日）： 2011年11月24日
要約：
【課題】光照射によって現像を経ずにパターン形成が可能なパターン形成方法を提供する。【解決手段】光及び/又は熱によって可逆的に開環-閉環する環を有する基本骨格に修飾基が導入されてフォトクロミズムを示すフォトクロミック化合物を含む感光性組成物を用いたパターン形成方法であって、基本骨格は、式I【化1】で示される構造を有し、開環を行う開環波長光を感光性組成物に照射し、該感光性組成物を物質移動させるものである。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
光及び/又は熱によって可逆的に開環-閉環する環を有する基本骨格に修飾基が導入されてフォトクロミズムを示すフォトクロミック化合物を含む感光性組成物を用いたパターン形成方法であって、 前記基本骨格は、式I
IPC (3件)：
G03C 5/56 ,  G03C 1/685 ,  G02B 5/23
FI (3件)：
G03C5/56 ,  G03C1/685 ,  G02B5/23
Fターム (4件)：
2H048DA04 ,  2H048DA09 ,  2H123AA13 ,  2H123AA17
引用特許：
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (4件)
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