特許
J-GLOBAL ID:201103002949850630

印刷装置およびそのマスク設計方法およびそのマスク製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (3件): 橋本 剛 ,  小林 博通 ,  富岡 潔
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-372895
公開番号(公開出願番号):特開2001-179935
特許番号:特許第4446537号
出願日: 1999年12月28日
公開日(公表日): 2001年07月03日
請求項(抜粋):
【請求項1】 基板の印刷パターンに対応する開口部を有したマスクを、所定のギャップを隔てて基板に対向配設し、はんだ転写器具により前記マスク開口部を掃引してギャップ印刷を行う印刷装置において、 前記はんだ転写器具によってギャップの強制変位hが与えられたときの、弾性体平板(弾性係数E)のマスクの変形(x方向の変位Δu、y方向の変位Δv、z方向の変位h)を、3次元弾性体面外変形式(変形応力モデルの計算式)を用いて計算することによって、前記ギャップ印刷時の、前記印刷パターンと、該印刷パターンに対応する前記開口部との位置ずれを求める位置ずれ演算部と、 前記位置ずれ演算部で求められた位置ずれを相殺する位置に開口部を設けて成るマスクとを備えたことを特徴とする印刷装置。
IPC (5件):
B41F 15/36 ( 200 6.01) ,  B41C 1/14 ( 200 6.01) ,  B41F 15/08 ( 200 6.01) ,  H05K 3/12 ( 200 6.01) ,  H05K 3/34 ( 200 6.01)
FI (5件):
B41F 15/36 A ,  B41C 1/14 101 ,  B41F 15/08 303 E ,  H05K 3/12 610 N ,  H05K 3/34 505 D
引用特許:
審査官引用 (8件)
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