特許
J-GLOBAL ID：201103003270225872

金属配線用エッチング液組成物、及びこれを利用した薄膜トランジスタ表示板の製造方法

発明者：
李 炳 珍

李 炳 珍 について

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朴 弘 植

朴 弘 植 について

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李 泰 亨

李 泰 亨 について

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宋 ▲ヨン▼ 聲

宋 ▲ヨン▼ 聲 について

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朴 忠 雨

朴 忠 雨 について

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呉 鐘 鉉

呉 鐘 鉉 について


出願人/特許権者：
三星電子株式会社

三星電子株式会社 について

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テクノセミケム株式会社

テクノセミケム株式会社 について


代理人 (2件)： 小野 由己男 ,  稲積 朋子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-216591
公開番号（公開出願番号）：特開2011-228618
出願日： 2010年09月28日
公開日（公表日）： 2011年11月10日
要約：
【課題】低い過酸化水素含有量で銅膜と他の金属膜とからなる多重膜の一括エッチングが可能で、工程に適したエッチング速度、適当なエッチング量、及び適切なテーパ傾斜角を有するエッチング液組成物により、既存の過水系エッチング液よりも高い安定性を有し、処理枚数能力を向上させる。【解決手段】本発明による金属配線エッチング液は、過酸化水素、酸化剤、フッ素化合物、キレート剤、硝酸系化合物、ホウ素系化合物、添加剤、及び残量の水を含むことを特徴とする。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
過酸化水素5乃至15重量%、酸化剤0.5乃至5重量%、フッ素化合物0.1乃至1重量%、硝酸系化合物0.5乃至5重量%、及びホウ素系化合物0.05乃至1重量%を含む金属配線用エッチング液組成物。
IPC (9件)：
H01L 21/308 ,  C23F 1/18 ,  C23F 1/26 ,  H01L 29/786 ,  H01L 21/336 ,  H01L 21/321 ,  H01L 21/320 ,  H01L 23/52 ,  H01L 21/306
FI (12件)：
H01L21/308 F ,  C23F1/18 ,  C23F1/26 ,  H01L29/78 616U ,  H01L29/78 616V ,  H01L29/78 617L ,  H01L29/78 617M ,  H01L29/78 627C ,  H01L29/78 612C ,  H01L21/88 C ,  H01L21/88 R ,  H01L21/306 F
Fターム (43件)：
4K057WA19 ,  4K057WB04 ,  4K057WB08 ,  4K057WE01 ,  4K057WE02 ,  4K057WE07 ,  4K057WE25 ,  4K057WF01 ,  4K057WF06 ,  4K057WF10 ,  4K057WG02 ,  4K057WN01 ,  5F033HH11 ,  5F033HH12 ,  5F033HH18 ,  5F033HH20 ,  5F033MM05 ,  5F033QQ08 ,  5F033QQ10 ,  5F033QQ20 ,  5F033WW04 ,  5F043AA26 ,  5F043AA27 ,  5F043BB18 ,  5F110AA26 ,  5F110BB01 ,  5F110CC07 ,  5F110DD02 ,  5F110EE02 ,  5F110EE04 ,  5F110EE06 ,  5F110EE14 ,  5F110EE23 ,  5F110EE43 ,  5F110FF27 ,  5F110GG42 ,  5F110HK02 ,  5F110HK04 ,  5F110HK06 ,  5F110HK21 ,  5F110HK32 ,  5F110HM03 ,  5F110QQ05
引用特許：
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (4件)
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