特許
J-GLOBAL ID:201103003351623236

グレートーンマスクの欠陥検査方法及び欠陥検査装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 藤村 康夫
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-248650
公開番号(公開出願番号):特開2002-174602
特許番号:特許第3879904号
出願日: 2001年08月20日
公開日(公表日): 2002年06月21日
請求項(抜粋):
【請求項1】遮光部と、透過部と、透過量を調整した領域であってこの領域を透過する光の透過量を低減して該領域を介して露光したフォトレジストの膜厚を選択的に変えることを目的とするグレートーン部とを有するグレートーンマスクの欠陥検査方法であって、 マスク内に形成された同一パターンの透過光を各々レンズで受光し、パターンの相違に応じて現れる透過量信号同士を相互に比較して差信号を得ることによって欠陥を検出する比較検査手法を用い、 該差信号の閾値として、遮光部・透過部用欠陥抽出閾値と、グレートーン部専用欠陥抽出閾値を設け、 かつ、遮光部及び透過部と、グレートーン部とのいずれの領域を検査しているのかを前記透過量信号に基づいて識別し、遮光部又は透過部を検査している場合は遮光部・透過部用欠陥抽出閾値を用いて欠陥の検査を行い、グレートーン部を検査している場合はグレートーン部専用欠陥抽出閾値を用いてグレートーン部の欠陥検査を行うことを特徴とするグレートーンマスクの欠陥検査方法。
IPC (3件):
G01N 21/956 ( 200 6.01) ,  G03F 1/08 ( 200 6.01) ,  H01L 21/027 ( 200 6.01)
FI (3件):
G01N 21/956 A ,  G03F 1/08 S ,  H01L 21/30 502 P
引用特許:
審査官引用 (8件)
  • 特開平2-210250
  • フォトマスクの欠陥検査方法
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平5-169117   出願人:レーザーテック株式会社
  • パーティクル検査方法及び装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平6-242889   出願人:富士通株式会社
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