特許
J-GLOBAL ID:201103003382219182

ガスを精製するための方法および装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (7件): 曾我 道照 ,  曾我 道治 ,  池谷 豊 ,  古川 秀利 ,  鈴木 憲七 ,  福井 宏司 ,  望月 孜郎
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-230032
公開番号(公開出願番号):特開2001-081485
特許番号:特許第3719376号
出願日: 2000年07月28日
公開日(公表日): 2001年03月27日
請求項(抜粋):
【請求項1】 C1乃至C5およびそれ以上の重質の炭化水素を含有する原料供給ガス、特に天然ガス(NG)を精製して、ガスを吸着操作または例えばターボ膨張機の中での低温膨張操作を行うことなく、揮発性のメルカプタン型の硫黄化合物を除去するプロセスにおいて、あらかじめ乾燥し、かつ部分的に冷却した(2a、2b)原料供給ガス(1)を加圧下に吸収塔(4)内に供給し、この吸収塔は、還流流体(5)を受容するものであり、その塔頂生成物(6)は、メルカプタン類の含有量が30ppm未満の精製ガスであり、かつその塔底生成物(13)は分別蒸留塔(15)に供給されるものであり、この分別蒸留塔においては、油分溜分(29)からメルカプタンを含まない原料供給ガスの最も揮発性の高い化合物(16)を分離するものであり、塔底で抜き出した油分溜分(29)はメルカプタン類の最も揮発性の高い成分を含み、それは少なくとも一つの蒸留塔(31、48)の塔頂(32、49)で除去され、この蒸留塔の塔底最終生成物(63)はそれぞれがC5およびそれ以上の重質の炭化水素類からなる混合物を含む液状油分から構成されているものであるが、揮発性のメルカプタンをもはや一切含まないようにスイートニング処理されて、前記分別蒸留塔(15)の塔頂で分離され、原料供給ガスから再度圧縮(24)されたもっとも揮発性の高い化合物(16、23)に部分的に混合され(71)、こうして得られた混合物を冷却し(72、2b)、還流(5)によって前記吸収塔(4)にフィードし、このようにして前記還流流体を構成させることを特徴とする前記プロセス。
IPC (3件):
C10L 3/10 ,  B01D 3/14 ,  B01D 53/14
FI (3件):
C10L 3/00 B ,  B01D 3/14 A ,  B01D 53/14 Z
引用特許:
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (4件)
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