特許
J-GLOBAL ID：201103003397663267
レーザCVD装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
岩佐 義幸
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-136925
公開番号（公開出願番号）：特開2000-328247
特許番号：特許第3175731号
出願日： 1999年05月18日
公開日（公表日）： 2000年11月28日
請求項（抜粋）：
【請求項1】レーザ光源と、前記レーザ光源により基板上の所定の位置にレーザ光を照射して基板を観察する機能を備えた顕微レーザ光学系と、前記基板上の前記所定の位置に局所的なCVDガスの供給排気を行うガスウインドウとを備えたレーザCVD装置であって、前記顕微レーザ光学系は、前記レーザ光源からのレーザ光と、スリット照明の照明光とを合成する第1のミラーと、前記レーザ光とスリット照明の照明光とを整形するスリットと、前記スリットを通過した光と、照明からの反射照明光とを合成する第2のミラーと、前記第2のミラーにより合成された光を反射する第3のミラーと、前記第3のミラーにより反射された光を通過させるリレーレンズと、前記リレーレンズを通過した光を前記ガスウインドウを介して前記基板上に照射させるための対物レンズと、前記対物レンズの焦点位置を調整する自動焦点調整機構とを備えたレーザCVD装置において、前記対物レンズが倍率の異なる複数の対物レンズであり、前記顕微レーザ光学系は、前記複数の対物レンズのうちから一つを選択するレボルバを備えたことを特徴とするレーザCVD装置。
IPC (3件)：
C23C 16/44
, G02B 21/00
, G03F 7/40 511
C23C 16/44 B
, G02B 21/00
, G03F 7/40 511
