特許
J-GLOBAL ID：201103003559950320
光応答性材料及び異性化処理方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
三枝 英二
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-322260
公開番号（公開出願番号）：特開2001-139585
特許番号：特許第3653587号
出願日： 1999年11月12日
公開日（公表日）： 2001年05月22日
請求項（抜粋）：
【請求項1】式 cis-又は trans-[(M(A1)(A2))(E(R1)(R2)(R3))B]n+ (但し、Mは遷移金属元素;A1及びA2は、同一又は別異の芳香環を有する二座配位子であって置換基を有していても良いもの;EはS、P、Se又はAs;R1、R2及びR3は、同一又は別異で、O若しくはN、O若しくはNを介してEに結合する炭化水素基であって置換基を有していても良いもの又はEに直接結合する炭化水素基であって置換基を有していても良いもの;Bはアニオン基;nは整数を示す。)で示され、かつ、A1及びA2のいずれか一方とR3との間でπ-π相互作用が生じている錯体化合物を含む材料であって、 前記炭化水素基R1及びR2の少なくとも一方のO又はN原子が、R3との間でπ-π相互作用が実質的に生じていない方の二座配位子の水素原子と水素結合している材料を光照射することにより生じる上記錯体化合物の異性化を利用することを特徴とする光応答性材料。
IPC (4件)：
C07F 9/48
, C09K 9/02
, C07F 15/00
, C07M 9:00
C07F 9/48
, C09K 9/02 B
, C07F 15/00 A
, C07M 9:00
