特許
J-GLOBAL ID:201103004439294158
ラングミュア・ブロジェット絶縁薄膜およびその作成方法
発明者:
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出願人/特許権者:
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代理人 (5件):
大野 聖二
, 森田 耕司
, 片山 健一
, 鈴木 守
, 加藤 真司
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2010-047499
公開番号(公開出願番号):特開2011-181480
出願日: 2010年03月04日
公開日(公表日): 2011年09月15日
要約:
【課題】絶縁特性に優れたラングミュア・ブロジェット絶縁薄膜を提供すること。【解決手段】基板10の上に付着した複数のナノシート20のそれぞれの表面にカチオン性両親媒性分子が吸着した複合膜40が形成され、この複合膜40が複数積層している。第1層の複合膜40aに内包されるナノシート間の粒界25と第2層の複合膜40bに内包されるナノシート間の粒界25との間には、何の相関も存在しない状態で積層されるから、第1層の複合膜40a中のナノシート粒界と第2層の複合膜40b中のナノシート粒界とが連結される確率は極めて低い。また、ある領域において第1層の複合膜40a中のナノシート粒界と第2層の複合膜40b中のナノシート粒界とが空間的に近くにあったとしても、更に第3層の複合膜40cを積めば上記領域に第3層の複合膜中のナノシート粒界が位置してピンホールとして連結されるという確率は無視できるほどに低い。【選択図】図1
請求項(抜粋):
アニオン性金属酸化物のナノシートの表面にカチオン性両親媒性分子が吸着した複合膜が複数積層されていることを特徴とするラングミュア・ブロジェット絶縁薄膜。
IPC (5件):
H01B 3/00
, B05D 1/20
, C01G 33/00
, B01J 19/00
, B32B 9/00
FI (5件):
H01B3/00 F
, B05D1/20
, C01G33/00 A
, B01J19/00 M
, B32B9/00 A
Fターム (34件):
4D075AB24
, 4D075AE05
, 4D075CA23
, 4D075DA06
, 4D075DB11
, 4D075DC21
, 4F100AA17A
, 4F100AH03B
, 4F100BA02
, 4F100CC00B
, 4F100EH46
, 4F100GB41
, 4F100JG04
, 4G048AA03
, 4G048AB02
, 4G048AC08
, 4G048AD01
, 4G048AE05
, 4G075AA25
, 4G075BB01
, 4G075BB04
, 4G075BB08
, 4G075BD08
, 4G075BD15
, 4G075CA57
, 4G075EA02
, 5G303AA07
, 5G303AB01
, 5G303BA03
, 5G303CA01
, 5G303CB06
, 5G303CB21
, 5G303CD11
, 5G303DA01
引用特許:
引用文献:
審査官引用 (1件)
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Chem.Commun., 2005, No.15, p.1999-2001
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