特許
J-GLOBAL ID：201103004924801033
真空紫外線リソグラフィーに用いられる投影レンズ用シリカガラス光学材料の製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
武田 正彦 (外3名)
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-332853
公開番号（公開出願番号）：特開2001-151531
特許番号：特許第3228732号
出願日： 1999年11月24日
公開日（公表日）： 2001年06月05日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 波長155〜195nmの真空紫外線リソグラフィーに用いられ、直径が200mmを超える大型の投影レンズ用シリカガラス光学材料において、不純物としてのLi、NaおよびKが各1 wtppb以下、CaおよびMgが各0.5 wtppb以下、Cr、Fe、Ni、MoおよびWが各0.1 wtppb以下の超高純度であり、OH基を1〜10 wtppm、Fを100〜10,000 wtppm、そしてH2 を1×1017〜1×1019分子/cm3含有し、F/OHの値が50〜1000であり、溶存水分子濃度が1×1017分子/cm3以下であり、F濃度分布が、円柱状シリカガラス光学材料の中心軸について軸対称であり、該光学材料の中心部から外周部に向かって徐々に増大または減少し、間隔1cmで隣り合った測定点間でのフッ素濃度の差Δfが10wtppm以下であるシリカガラス光学材料の製造方法において、珪素化合物の火炎加水分解法により略円柱体形状のOH基含有白色スート体を作り、該スート体をフッ素含有ガス雰囲気加熱処理によりフッ素ドープ処理を行い、OH基とフッ素を含有するスート体とし、次に減圧雰囲気加熱により透明ガラス化処理を行い、次に火炎加熱成形により丸棒状透明シリカガラス体とし、該透明ガラス体の端部から他方の端部へ順次火炎加熱により帯状溶融回転攪拌処理を行い、フッ素濃度分布を回転軸対称とし、次に、円柱状の成形キャビティを備える成形型枠を準備し、前記透明ガラス体を、その回転軸が前記成形型枠の中心軸に重なるようにして、該成形型枠内に配置し、ほぼ自重により溶融沈降させて成形し略円柱体形状とし、次に歪除去のためアニール処理を行い、最後に水素ガス含有ガス雰囲気熱処理により水素ガスドープ処理を行うシリカガラス光学材料の製造方法。
IPC (6件)：
C03C 3/06
, C03B 8/04
, C03B 20/00
, G02B 1/02
, G03F 7/20 502
, H01L 21/027
C03C 3/06
, C03B 8/04 L
, C03B 20/00 F
, G02B 1/02
, G03F 7/20 502
, H01L 21/30 515 D
