特許
J-GLOBAL ID：201103005773024354
二光束干渉計
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
三浦 邦夫
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-234037
公開番号（公開出願番号）：特開2001-056209
特許番号：特許第4199382号
出願日： 1999年08月20日
公開日（公表日）： 2001年02月27日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 干渉性を持つ平行光を発生する光源部と;
被験光学要素を載置する試料台と;
この試料台上の被験光学要素に、上記光源部からの平行光を集光した測定光を与える集光レンズと;
この集光レンズを透過した測定光の被験光学要素の被験面での反射測定光と、基準平面原器の基準反射面での反射参照光とを集光して撮像部に入射させる集光ユニットと;
上記集光ユニットを、光路の内外に進退させる集光ユニット進退機構と;を備え、
上記集光ユニットはさらにコリメータレンズを有し、
上記集光ユニット進退機構は、上記コリメータレンズが、上記基準平面原器と上記撮像部の撮像面とをほぼ共役関係にするように、上記集光ユニットを光路内に進入させると共に、
上記撮像部は、上記集光ユニットが光路内にあるとき被験光学要素の被験面での反射測定光と基準反射面での反射参照光との二光束による干渉縞を観察し、該集光ユニットが光路外に退避したとき試料台上の被験光学要素を拡大観察することを特徴とする二光束干渉計。
IPC (1件)：
FI (1件)：
引用特許：
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