特許
J-GLOBAL ID：201103006807817428

薄膜形成用スパッタリングターゲット材、それを用いて形成されて成る薄膜及び光学記録媒体

発明者：
上野 崇

上野 崇 について

, 
小田 伸浩

小田 伸浩 について


出願人/特許権者：
株式会社フルヤ金属

株式会社フルヤ金属 について


代理人 (2件)： 柳瀬 睦肇 ,  渡部 温
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-333559
公開番号（公開出願番号）：特開2002-129260
特許番号：特許第4638015号
出願日： 2000年10月31日
公開日（公表日）： 2002年05月09日
請求項（抜粋）：
【請求項1】Auを0.1mass%以上5.0mass%以下含有し、Al、Ti、Ni、V、Ta、W、Mo、Cr、Mgからなる群から選ばれた少なくとも1種類以上の元素を0.1mass%以上5.0mass%以下含有し、残部がAg及び不可避的不純物からなる金属材料からなることを特徴とする薄膜形成用スパッタリングターゲット材。
IPC (4件)：
C22C 5/06 ( 200 6.01) ,  C23C 14/34 ( 200 6.01) ,  G11B 7/258 ( 200 6.01) ,  G11B 7/26 ( 200 6.01)
FI (5件)：
C22C 5/06 Z ,  C23C 14/34 A ,  G11B 7/24 538 E ,  G11B 7/24 538 H ,  G11B 7/26 531
引用特許：
審査官引用 (4件)
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