特許

J-GLOBAL ID：201103006853760228

X線マスクおよびその製造方法

発明者： 小田 政利 ,  嶋田 勝 ,  土澤 泰 ,  内山 真吾 ,  芳賀 恒之 ,  吉原 秀雄
出願人/特許権者： 日本電信電話株式会社 ,  エヌ・ティ・ティ・アドバンステクノロジ株式会社
代理人 (1件)： 和泉 良彦 (外1名)
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-166364
公開番号（公開出願番号）：特開2000-353658
特許番号：特許第3354900号
出願日： 1999年06月14日
公開日（公表日）： 2000年12月19日
請求項（抜粋）：

【請求項1】X線を透過するマスク基板上に、X線を吸収する材料からなる吸収体パタンを載置した構造のX線マスクにおいて、上記吸収体パタンは、少なくともTaで構成されており、その下地材料層としてRu層を設けたことを特徴とするX線マスク。

IPC (3件)：

H01L 21/027 ,  G03F 1/16 ,  G21K 5/02

FI (3件)：

G03F 1/16 A ,  G21K 5/02 X ,  H01L 21/30 531 M

引用特許：

審査官引用 (2件)

• X線マスクブランク、X線マスク及びパターン転写方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-334511   出願人：ホーヤ株式会社
• 転写マスク
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-172711   出願人：ホーヤ株式会社