特許
J-GLOBAL ID：201103007373012554
遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
高松 猛
, 矢澤 清純
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-152861
公開番号（公開出願番号）：特開2000-338680
特許番号：特許第4046258号
出願日： 1999年05月31日
公開日（公表日）： 2000年12月08日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 (A)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物と、
(B)下記一般式(I)で表される繰り返し単位、および、下記一般式(II)で表される基でアルカリ可溶性基を保護した基を有し、かつ酸の作用により分解し、アルカリに対する溶解性が増大する樹脂、及び
(C)下記一般式(CI)又は(CII)で表される化合物
を含有することを特徴とする遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物。
式(I)中:
R1は、水素原子、ハロゲン原子又は1〜4個の炭素原子を有する直鎖もしくは分岐のアルキル基を表す。
R2〜R4は、各々独立に、水素原子又は水酸基を表す。ただし、R2〜R4のうち少なくとも1つは、水酸基を表す。
一般式(II)中、
Raは水素原子、炭素数1〜4個のアルキル基を表す。但し、m=0又は2の時、Raは炭素数1〜4個のアルキル基を表す。
Rb〜Reは各々独立に、水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基を表す。
mは、0から2の整数を表し、nは、1〜3の整数を表す。m+nは、2以上6以下である。
式(CI)中、Xは、-O-、-S-、-N(R53)-、又は単結合を表し、
R51、R52、R53は、各々独立に水素原子又はアルキル基を表し、
R′は-COOR′で酸分解性基を構成する基を表す。
Rは、有橋式炭化水素基又はナフタレン環を含むn1価の残基を表す。
式(CII)中、
R60は水素原子又はアルキル基を表し、
R61は-O-R61で酸分解性基を構成する基を表し、
m1 、n1 、p1 は、各々独立に、1〜4の整数を示し、
q1は0〜10の整数を示す。
IPC (3件)：
G03F 7/039 ( 200 6.01)
, G03F 7/004 ( 200 6.01)
, C08F 20/12 ( 200 6.01)
G03F 7/039 601
, G03F 7/004 501
, C08F 20/12
