特許
J-GLOBAL ID：201103007975505853

電解水生成装置の洗浄方法

発明者：
岡 崎 良 弥

岡 崎 良 弥 について


出願人/特許権者：
ヴィータ株式会社

ヴィータ株式会社 について


公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-130317
公開番号（公開出願番号）：特開2000-317454
特許番号：特許第4110499号
出願日： 1999年05月11日
公開日（公表日）： 2000年11月21日
請求項（抜粋）：
【請求項1】陽極を含み酸性水を生成する陽極室と、陰極を含みアルカリ水を生成する陰極室とを有する電解槽と、陽極と陰極との間に電圧を印加する電源と、電解槽の陽極室出口側に設けられ、酸性水を貯留する貯留部と、電解槽の陰極室出口側に設けられ、アルカリ水を放出する放出ラインと、貯留部内の酸性水を陽極室へ戻す戻し機構と、陽極室の入口側に設けられた第1給水ラインと、陰極室の入口側に設けられた第2給水ラインと、第1給水ラインと第2給水ラインを連結する連結部と、を備えた電解水生成装置の洗浄方法において、 戻し機構を作動させて貯留部内の酸性水を陽極室へ戻すとともに、陽極室の酸性水を第1給水ライン、連結部、および第2給水ラインを介して陰極室へ送り、さらに陰極室から放出ラインを経て外方へ放出しながら、陽極と陰極との間に陽極が正側、陰極が負側となる通常モードで電圧を印加して陰極室内を高濃度の次亜塩素酸または次亜塩素酸ソーダにより殺菌する工程と、 陽極室内と陰極室内に水を充満させた状態で陽極と陰極との間に再度電圧を印加する工程と、を備えたことを特徴とする電解水生成装置の洗浄方法。
IPC (3件)：
C02F 1/46 ( 200 6.01) ,  C02F 1/50 ( 200 6.01) ,  C02F 1/76 ( 200 6.01)
FI (8件)：
C02F 1/46 A ,  C02F 1/46 Z ,  C02F 1/50 531 P ,  C02F 1/50 540 B ,  C02F 1/50 550 H ,  C02F 1/50 550 L ,  C02F 1/50 560 F ,  C02F 1/76 A
引用特許：
出願人引用 (7件)
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