特許
J-GLOBAL ID：201103008371784670
光照射装置およびこれを用いた転写加工装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (4件)：
高橋 省吾
, 稲葉 忠彦
, 村上 加奈子
, 中鶴 一隆
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-276231
公開番号（公開出願番号）：特開2001-100146
特許番号：特許第4003356号
出願日： 1999年09月29日
公開日（公表日）： 2001年04月13日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 光源と、
前記光源から出射される光に複数の角度をもたせて広げ分割するホログラムと、
前記ホログラムで分割された光を集光するレンズと、
前記レンズを透過した光が照射される被照射部とが順次配置され、
前記レンズは、前記ホログラムに対して前記レンズの焦点距離fを隔てて配置され、
前記ホログラムによって分割された光ビームは、前記レンズから前記焦点距離f離れた位置Xでの前記光ビームの重ね合わせ強度が均一な均一領域を有し、
前記光ビームの中で前記光源から出射される光の光軸上を進む0次光成分は、前記位置Xでの前記光ビームの重ね合わせ強度を前記均一領域の重ね合わせ強度より増大させ、
前記被照射部は、当該被照射部における前記光ビームの重ね合わせ強度が均一な領域の前記重ね合わせ強度をI、前記0次光成分により前記Iより増大した光強度の最大値をΔIとしたときのΔI/Iの比が0.1以下となる最小の距離Δaだけ前記位置Xから隔てて配置されていることを特徴とする光照射装置。
IPC (3件)：
G02B 27/09 ( 200 6.01)
, G02B 5/32 ( 200 6.01)
, B23K 26/06 ( 200 6.01)
G02B 27/00 E
, G02B 5/32
, B23K 26/06
