基板回転装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：熊谷隆 , 高木裕
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-369558
公開番号（公開出願番号）：特開2001-093967
特許番号：特許第3923696号
出願日： 1999年12月27日
公開日（公表日）： 2001年04月06日
請求項（抜粋）：

【請求項1】処理室に連通する空間に設けられ、水平ディスクを備え、基板を搭載して回転するロータと、ヨークを有する電磁石で構成され、前記ロータを支持するアキシャル磁気軸受とラジアル磁気軸受からなる磁気軸受であり、該電磁石が該磁気軸受のステータ側構成部材となる磁気軸受と、ステータ側構成部材を有し、前記処理室内の基板を回転する回転力を前記ロータに与えるモータを備えた基板回転装置において、前記アキシャル磁気軸受は3個に分割されたアキシャル磁気軸受で構成され、該3個に分割された各アキシャル磁気軸受はそれが配置された点を結ぶ仮想線が、略正三角形となるように配置され、該3個に分割されたアキシャル磁気軸受の電磁石が前記ロータの水平ディスクの略上下に配置され、前記磁気軸受のステータ側構成部材と前記モータのステータ側構成部材は、ステータハウジングとして機能する隔壁により区切られた、前記処理室に連通する空間の外側の空間に位置し、該隔壁は前記ロータと該磁気軸受のステータ側構成部材及び該モータのステータ側構成部材の間に配置され、前記電磁石のヨークが配置された前記隔壁の一部は、前記磁気軸受のステータ側構成部材である該電磁石のヨークと同質材料であることを特徴とする基板回転装置。

IPC (2件)：

H01L 21/683 ( 200 6.01) , F16C 32/04 ( 200 6.01)

FI (2件)：

H01L 21/68 N , F16C 32/04 A

引用特許：

審査官引用 (5件)

薄膜形成装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-223845 出願人：株式会社荏原製作所
磁気軸受装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-032030 出願人：深田悟, 光洋精工株式会社
磁気軸受型スピンドル装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-165262 出願人：光洋精工株式会社

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