特許
J-GLOBAL ID：201103009707331616
パターン寸法測定装置およびパターン寸法測定方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (4件)：
佐藤 一雄
, 橘谷 英俊
, 佐藤 泰和
, 箱崎 幸雄
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-134971
公開番号（公開出願番号）：特開2000-321040
特許番号：特許第4084905号
出願日： 1999年05月14日
公開日（公表日）： 2000年11月24日
請求項（抜粋）：
【請求項1】パターンが形成された試料を上面に載置するステージと、
前記ステージをX-Y平面内で移動させるステージ制御手段と、
前記試料に電子ビームを照射する電子ビーム照射手段と、
前記電子ビームを偏向してそのビーム軌道の全てが出射時のビーム軸から離隔する領域を含む前記試料上の領域で走査させる電子ビーム偏向走査手段と、
前記ステージの移動中に前記ステージのX-Y座標を検出するステージ座標検出手段と、
前記ステージの移動中に前記電子ビーム偏向走査手段の焦点距離を検出する焦点距離測定手段と、
前記電子ビームの照射により前記試料から放出される二次電子および反射電子を検出し、前記試料表面の形状を現す画像であるSEM画像を形成する画像信号を出力する二次電子検出手段と、
前記画像信号に基づいて測定対象である被測定パターンを認識してその寸法を算出するパターン寸法演算手段と、
前記ステージを等速で移動させ、前記ステージ座標検出手段および前記焦点距離測定手段の検出結果に基づいて、前記被測定パターンが前記電子ビームの走査可能領域の近傍に至るときに、前記電子ビーム偏向走査手段の焦点距離を最適化した上で、前記ステージの等速移動に同期して前記電子ビームの走査開始位置を移動させながら前記被測定パターン上で前記電子ビームを走査させて前記被測定パターンの前記SEM画像を取得する制御手段と、
を備えるパターン寸法測定装置。
IPC (1件)：
FI (1件)：
引用特許：
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