特許
J-GLOBAL ID:201103010045462284

表面処理装置

発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-246647
公開番号(公開出願番号):特開2001-073152
特許番号:特許第3535051号
出願日: 1999年08月31日
公開日(公表日): 2001年03月21日
請求項(抜粋):
【請求項1】処理槽内に供給された処理液中に、被処理物を浸漬し、該被処理物表面の洗浄やめっき等の表面処理を行う表面処理装置において、前記処理槽内の前記被処理物の設置領域よりも下部に、処理液導入手段及び気泡発生手段を設置して成り、これら処理液導入手段及び気泡発生手段は共にH字型分岐配管を組み合わせた配管構造を有するとともに、各H字型分岐配管は1/2配管長で順次分岐して成り、その末端に位置するH字型分岐配管の4隅より処理液又は気泡を導入するようにしたことを特徴とする表面処理装置。
IPC (3件):
C23C 18/16 ,  C23G 3/00 ,  C25D 17/00
FI (3件):
C23C 18/16 C ,  C23G 3/00 ,  C25D 17/00 K
引用特許:
出願人引用 (5件)
  • 化学メッキ槽
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平4-353035   出願人:イビデン株式会社
  • 浸漬型基板処理装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平4-072556   出願人:大日本スクリーン製造株式会社
  • 特開平1-209039
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