特許
J-GLOBAL ID:201103013170372881
触媒系およびこの触媒系の存在下でポリエチレンを製造するプロセス
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (2件):
柳田 征史
, 佐久間 剛
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2010-550084
公開番号(公開出願番号):特表2011-513560
出願日: 2009年03月10日
公開日(公表日): 2011年04月28日
要約:
本発明は、I.(a)(1)含酸素有機マグネシウム化合物またはハロゲン含有マグネシウム化合物および(2)含酸素有機チタン化合物を含む炭化水素溶液と、(b)式MeRnX3-nを有し、Xがハロゲンであり、Meが化学元素のメンデレーエフの周期系のIII族の金属であり、Rが1〜10の炭素原子を含有する炭化水素ラジカルであり、0≦n≦3である金属化合物、および式RmSiCl4-mを有し、0≦m≦2、Rが1〜10の炭素原子を含有する炭化水素ラジカルであるケイ素化合物を含む混合物との反応であって、(b)からの金属対(a)からのチタンのモル比が1:1より小さいものである反応によって得られた固体反応生成物、およびII.式AlR3を有し、Rが1〜10の炭素原子を含有する炭化水素ラジカルである有機アルミニウム化合物を含む触媒系に関する。
請求項(抜粋):
触媒系において、
I.(a)炭化水素溶液であって、
(1)含酸素有機マグネシウム化合物またはハロゲン含有マグネシウム化合物および
(2)含酸素有機チタン化合物、
を含む炭化水素溶液と、
(b)式MeRnX3-nを有し、Xがハロゲンであり、Meが化学元素のメンデレーエフの周期系のIII族の金属であり、Rが1〜10の炭素原子を含有する炭化水素ラジカルであり、0≦n≦3である金属化合物、および式RmSiCl4-mを有し、0≦m≦2、Rが1〜10の炭素原子を含有する炭化水素ラジカルであるケイ素化合物を含む混合物と、
の反応であって、(b)からの金属対(a)からのチタンのモル比が1:1より小さいものである反応によって得られた固体反応生成物、および
II. 式AlR3を有し、Rが1〜10の炭素原子を含有する炭化水素ラジカルである有機アルミニウム化合物、
を含むことを特徴とする触媒系。
IPC (2件):
FI (2件):
C08F4/658
, C08F10/00 510
Fターム (15件):
4J128AA01
, 4J128AB01
, 4J128AC07
, 4J128BA01A
, 4J128BA01B
, 4J128BB01A
, 4J128BB01B
, 4J128BC15B
, 4J128BC17A
, 4J128CA20A
, 4J128CB35A
, 4J128GA04
, 4J128GA09
, 4J128GA24
, 4J128GB02
引用特許:
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (5件)
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