スポットサイズ変換光導波路の製法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：和泉良彦 , 小林茂
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-222736
公開番号（公開出願番号）：特開2000-304955
特許番号：特許第3607129号
出願日： 1999年08月05日
公開日（公表日）： 2000年11月02日
請求項（抜粋）：

【請求項1】基板上に第1の下部クラッド層薄膜を形成する第1の工程と、上記第1の下部クラッド層薄膜を選択的にエッチングして光接続部近傍の上記第1の下部クラッド層薄膜を除去する第2の工程と、下部クラッド層薄膜材料を塗布する第3の工程と、上記下部クラッド層薄膜材料を熱硬化処理することにより平坦化率が低く上記基板に垂直な方向にテーパー構造を有する第2の下部クラッド層薄膜を形成する第4の工程と、平坦化率の高いコア層薄膜を形成する第5の工程と、上記コア層薄膜を選択的にエッチングして上記基板と平行な方向にテーパー構造を持つコア層を形成する第6の工程の6つの工程を少なくとも含むことを特徴とするスポットサイズ変換光導波路の製法。

IPC (1件)：