特許
J-GLOBAL ID：201103013642781187

清掃装置、組立体及び画像形成装置

発明者：
岩崎 仁

岩崎 仁 について


出願人/特許権者：
富士ゼロックス株式会社

富士ゼロックス株式会社 について


代理人 (3件)： 中島 淳 ,  加藤 和詳 ,  福田 浩志
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-058189
公開番号（公開出願番号）：特開2011-191548
出願日： 2010年03月15日
公開日（公表日）： 2011年09月29日
要約：
【課題】帯電ロール23の表面を清掃する際において帯電ロール23の軸方向に生じる清掃ムラを抑制する。【解決手段】帯電ロール23の軸方向両端部が軸方向中央部よりも異物の付着量が多くなる構成に対して、清掃材66の巻き角度を、軸部64の軸方向両端部において、軸部64の軸方向中央部よりも小さくする。巻き角度は小さいほうが、大きい場合よりも清掃能力が高いため、帯電ロール23の表面のうち付着量が多い軸方向両端部で、付着量が少ない軸方向中央部よりも、異物が多く除去される。これにより、帯電ロール23の表面を清掃する際において帯電ロール23の軸方向に生じる清掃ムラが抑制される。【選択図】図2
請求項（抜粋）：
異物が付着する付着量に軸方向に沿って分布を有する被清掃体の表面に沿って配置された軸部と、 前記軸部の軸方向に沿って螺旋状に巻き付けられ、前記被清掃体を清掃する清掃能力が前記被清掃体の表面のうち前記異物の付着量が多くなる部分で前記異物の付着量が少ない部分よりも高くなるように、該清掃能力が前記軸部の軸方向に沿って分布を有する清掃材と、 を備える清掃装置。
IPC (1件)：
G03G 15/02
FI (1件)：
G03G15/02 103
Fターム (23件)：
2H200FA02 ,  2H200GA12 ,  2H200GA23 ,  2H200GA33 ,  2H200GA44 ,  2H200GA47 ,  2H200GB11 ,  2H200GB22 ,  2H200GB25 ,  2H200GB44 ,  2H200HA02 ,  2H200HA28 ,  2H200HB12 ,  2H200HB22 ,  2H200JA02 ,  2H200JC03 ,  2H200LA38 ,  2H200LB02 ,  2H200LB08 ,  2H200LB15 ,  2H200LB35 ,  2H200MA03 ,  2H200MA20
引用特許：
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (4件)
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