特許
J-GLOBAL ID：201103013644242569
1波長の光線透過率による膜特性の制御されたAlOx膜の形成方法および装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (6件)：
清水 善廣
, 阿部 伸一
, 辻田 幸史
, 田代 作男
, 町田 悦夫
, 打揚 洋次
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-007866
公開番号（公開出願番号）：特開2001-192809
特許番号：特許第4669593号
出願日： 2000年01月17日
公開日（公表日）： 2001年07月17日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 真空成膜室内で、Alおよび反応ガスとしての酸素ガスまたは酸素含有ガスを用いて、誘電体からなる透明基板上に透明ガスバリヤ膜としてのAlOx膜を形成する方法において、該真空成膜室内で、該基板上に形成されたAlOx膜の光線透過率を、AlOx膜が成膜された透明基板とAlOx膜が成膜されていない透明基板との光線透過率の差異があらわれやすい350〜400nmの範囲の波長から選ばれた1波長で測定し、この測定値をモニタしながら、測定された光線透過率が77〜80%になるように設定した後、この段階で反応ガスの導入量を固定し、該光線透過率を77〜80%に保つようにしてAlOx膜の形成を行い、成膜中に該光線透過率が変化した場合には、Al蒸発量を調整することにより該光線透過率を77〜80%に保つようにしてAlOx膜の形成を続け、水蒸気透湿度、酸素透過率、全光線透過率の制御されたAlOx膜を形成することを特徴とする膜特性の制御されたAlOx膜の形成方法。
IPC (4件)：
C23C 14/08 ( 200 6.01)
, C23C 14/24 ( 200 6.01)
, C23C 14/54 ( 200 6.01)
, G01N 21/27 ( 200 6.01)
C23C 14/08 A
, C23C 14/24 U
, C23C 14/54 E
, G01N 21/27 Z
