特許
J-GLOBAL ID：201103014387223406
電子放出素子、電子源及び画像形成装置の製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
山下 穣平
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-049068
公開番号（公開出願番号）：特開2000-251683
特許番号：特許第3478755号
出願日： 1999年02月25日
公開日（公表日）： 2000年09月14日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 基板上に対向する一対の素子電極に電気的に接続された導電性膜を有し、該導電性膜上に有機膜を配置した電子放出部を有する電子放出素子の製造方法であって、金属化合物溶液をインクジェット法により塗布し、乾燥、焼成して前記導電性膜とする工程、前記一対の素子電極間に電圧を印加し、前記導電性膜に亀裂を形成する工程、(ドット周辺部の膜厚/ドット中央部の膜厚)で膜厚分布を表すとして、前記導電性膜上に、ポリアミック酸とアミンとを含有する溶液をインクジェット法により塗布し、膜厚分布が、2/1から1/2となる有機膜を形成する工程、前記一対の素子電極間に電圧を印加し、前記有機膜に亀裂を形成する工程を有することを特徴とする電子放出素子の製造方法。
IPC (1件)：
FI (1件)：
引用特許：
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