特許
J-GLOBAL ID:201103014433584788

基板処理システム及び基板処理装置並びにデバイス製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (6件): 志賀 正武 ,  高橋 詔男 ,  渡邊 隆 ,  青山 正和 ,  西 和哉 ,  村山 靖彦
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-175949
公開番号(公開出願番号):特開2001-006999
特許番号:特許第4196037号
出願日: 1999年06月22日
公開日(公表日): 2001年01月12日
請求項(抜粋):
【請求項1】基板を処理する第1装置と、 前記第1装置から搬送される前記基板を処理する第2装置と、 前記第1装置のトラブルに対応する時間情報を前記第1装置から前記第2装置に通信する通信手段とを備え、 前記第2装置は、所定の処理が実行可能かどうかを前記時間情報に基づいて判断する判断部を有することを特徴とする基板処理システム。
IPC (2件):
H01L 21/027 ( 200 6.01) ,  G03F 7/30 ( 200 6.01)
FI (2件):
H01L 21/30 502 G ,  G03F 7/30 501
引用特許:
審査官引用 (5件)
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