特許
J-GLOBAL ID:201103014540358260

SiC単結晶の製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (5件): 青木 篤 ,  石田 敬 ,  古賀 哲次 ,  関根 宣夫 ,  堂垣 泰雄
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2010-033949
公開番号(公開出願番号):特開2011-168447
出願日: 2010年02月18日
公開日(公表日): 2011年09月01日
要約:
【課題】種結晶及びその近傍に付着する多結晶を抑制することができるSiC単結晶の製造方法を提供する。【解決手段】種結晶保持部の下端に保持された第1の種結晶を坩堝内の原料融液に浸漬させることにより前記第1の種結晶上にSiC単結晶を成長させるSiC単結晶の製造方法において、前記第1の種結晶以外の部分で、多結晶の成長を促進させる処理が行われることを特徴とするSiC単結晶の製造方法が提供される。【選択図】図4
請求項(抜粋):
種結晶保持部の下端に保持された第1の種結晶を坩堝内の原料融液に浸漬させることにより前記第1の種結晶上にSiC単結晶を成長させるSiC単結晶の製造方法において、 前記第1の種結晶以外の部分で、多結晶の成長を促進させる処理が行われることを特徴とする、SiC単結晶の製造方法。
IPC (2件):
C30B 29/36 ,  C30B 19/04
FI (2件):
C30B29/36 A ,  C30B19/04
Fターム (11件):
4G077AA02 ,  4G077BE08 ,  4G077CG02 ,  4G077CG07 ,  4G077EG25 ,  4G077HA12 ,  4G077QA04 ,  4G077QA11 ,  4G077QA26 ,  4G077QA38 ,  4G077QA52
引用特許:
出願人引用 (3件) 審査官引用 (4件)
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