特許
J-GLOBAL ID:201103014540358260
SiC単結晶の製造方法
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (5件):
青木 篤
, 石田 敬
, 古賀 哲次
, 関根 宣夫
, 堂垣 泰雄
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2010-033949
公開番号(公開出願番号):特開2011-168447
出願日: 2010年02月18日
公開日(公表日): 2011年09月01日
要約:
【課題】種結晶及びその近傍に付着する多結晶を抑制することができるSiC単結晶の製造方法を提供する。【解決手段】種結晶保持部の下端に保持された第1の種結晶を坩堝内の原料融液に浸漬させることにより前記第1の種結晶上にSiC単結晶を成長させるSiC単結晶の製造方法において、前記第1の種結晶以外の部分で、多結晶の成長を促進させる処理が行われることを特徴とするSiC単結晶の製造方法が提供される。【選択図】図4
請求項(抜粋):
種結晶保持部の下端に保持された第1の種結晶を坩堝内の原料融液に浸漬させることにより前記第1の種結晶上にSiC単結晶を成長させるSiC単結晶の製造方法において、
前記第1の種結晶以外の部分で、多結晶の成長を促進させる処理が行われることを特徴とする、SiC単結晶の製造方法。
IPC (2件):
FI (2件):
Fターム (11件):
4G077AA02
, 4G077BE08
, 4G077CG02
, 4G077CG07
, 4G077EG25
, 4G077HA12
, 4G077QA04
, 4G077QA11
, 4G077QA26
, 4G077QA38
, 4G077QA52
引用特許:
前のページに戻る