特許

J-GLOBAL ID：201103014886509582

レーザ励起プラズマ光源、露光装置及びその製造方法、並びにデバイス製造方法

発明者： 太田 和哉 ,  谷元 昭一 ,  近藤 洋行 ,  神高 典明
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (1件)： 立石 篤司
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-552877
特許番号：特許第4174970号
出願日： 1999年05月31日
請求項（抜粋）：

【請求項1】 エネルギー線発生物質にレーザ光を照射してプラズマ状態に励起してエネルギー線を発生させるレーザ励起プラズマ光源であって、 前記エネルギー線発生物質を噴出するとともに、その先端部の少なくとも表層の部分が、前記発生するエネルギー線の内、利用しようとする波長のエネルギー線の透過率が重金属より大きな特定物質を含む物質により形成されたノズルと; 前記ノズルから噴出される前記エネルギー線発生物質にレーザ光を照射するレーザ光源とを備えるレーザ励起プラズマ光源。

IPC (6件)：

H05H 1/24 ( 200 6.01) ,  G03F 7/20 ( 200 6.01) ,  G21K 5/00 ( 200 6.01) ,  H01J 35/22 ( 200 6.01) ,  H01L 21/027 ( 200 6.01) ,  H05G 1/00 ( 200 6.01)

FI (6件)：

H05H 1/24 ,  G03F 7/20 ,  G21K 5/00 ,  H01J 35/22 ,  H01L 21/30 515 B ,  H05G 1/00

引用特許：

審査官引用 (4件)

• レーザプラズマX線源およびそれを用いた半導体露光装置並びに半導体露光方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-024731   出願人：株式会社日立製作所
• レーザプラズマX線発生装置とそれを用いた微細パターン転写方法および装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-006110   出願人：株式会社日立製作所
• X線発生用ターゲット、X線発生装置及びX線発生方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-187301   出願人：日本電信電話株式会社
• レーザープラズマX線源のデブリス除去方法及び装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-149267   出願人：関西電力株式会社, 財団法人レーザー技術総合研究所, 中井貞雄