特許

J-GLOBAL ID：201103016153581719

光学薄膜の成膜方法

発明者： 松田 時子
出願人/特許権者： キヤノンオプトロン株式会社 ,  キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 阪本 善朗
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-176209
公開番号（公開出願番号）：特開2001-003157
特許番号：特許第4298067号
出願日： 1999年06月23日
公開日（公表日）： 2001年01月09日
請求項（抜粋）：

【請求項1】 五酸化ニオブと金属ニオブとを99.5:0.5〜45:55の重量比で混合した混合物を蒸発源とし、該蒸発源を溶融し蒸発させることで基板に光学薄膜を真空蒸着させることを特徴とする光学薄膜の成膜方法。

IPC (3件)：

C23C 14/08 ( 200 6.01) ,  C23C 14/24 ( 200 6.01) ,  G02B 1/11 ( 200 6.01)

FI (3件)：

C23C 14/08 J ,  C23C 14/24 E ,  G02B 1/10 A

引用特許：

審査官引用 (5件)

• 特開昭64-050258
  
• 特開平4-325669
  
• 蒸着材料及び該蒸着材料を用いた光学薄膜の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-066041   出願人：キヤノン株式会社, 株式会社オプトロン
• 特開昭64-002212
  
• 酸化珪素の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-290386   出願人：住友シチックス株式会社

引用文献：

審査官引用 (2件)

• 化学大事典3縮刷版, 19791110, 第929頁
• 化学大事典6縮刷版, 19791110, 第677頁