高分子光導波路の製造方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：西教圭一郎 , 廣瀬峰太郎 , 竹内三喜夫
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-344167
公開番号（公開出願番号）：特開2002-031732
特許番号：特許第3943827号
出願日： 2000年11月10日
公開日（公表日）： 2002年01月31日
請求項（抜粋）：

【請求項1】第1の高分子からなるクラッド層と、第1の高分子の表面に設けられた凹部に形成され、第2の高分子からなるコア部とを少なくとも備えた高分子光導波路の製造方法において、コア部を形成するための断面凸形状が形成されている、高分子樹脂を含む原版上に、溶融状態または溶液状態の第1の高分子を塗布し、該第1の高分子を紫外線あるいは熱によって硬化させた後、原版および高分子を液体に浸漬して、該第1の高分子を原版から剥離させることにより表面に転写された凹部を備えた前記クラッド層を得る工程を含むことを特徴とする高分子光導波路の製造方法。

IPC (1件)：