特許
J-GLOBAL ID:201103016545554256
研磨パッド用補助板およびそれを用いた研磨パッドの再生方法
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (2件):
笠井 美孝
, 中根 美枝
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2010-023601
公開番号(公開出願番号):特開2011-161522
出願日: 2010年02月04日
公開日(公表日): 2011年08月25日
要約:
【課題】 回転定盤に対する研磨パッドの固着力を確保しつつ、回転定盤に対する研磨パッドの着脱を容易に行うことを可能と為し、特に回転定盤から研磨パッドを取り外すに際しての研磨パッドの損傷を防止することが出来る、新規な構造の研磨パッド用補助板を提供すること。【解決手段】 回転定盤12の上面に載置される補助板本体14と、補助板本体14の上面中央部分に設けられたパッド支持面14aと、補助板本体14の外周縁部に形成されて回転定盤12の外周に嵌め合わされる嵌合周壁部18とを備えた研磨パッド用補助板。【選択図】 図3
請求項(抜粋):
研磨機の回転定盤の上面に載置される補助板本体を備えており、
該補助板本体の表面の中央部分によって、半導体基板等の研磨に用いられる研磨パッドが重ね合わされて固着されるパッド支持面が構成されていると共に、
該補助板本体の外周縁部には該研磨機の回転定盤の外周面に沿って下方に突出して該回転定盤の外周に嵌め合わされる嵌合周壁部が形成されていることにより、
該パッド支持面に固着された該研磨パッドを該回転定盤に対して着脱可能に装着することを特徴とする研磨パッド用補助板。
IPC (2件):
FI (3件):
B24B37/04 E
, H01L21/304 622F
, H01L21/304 622M
Fターム (6件):
3C058AA07
, 3C058AA09
, 3C058AA14
, 3C058CB03
, 3C058CB04
, 3C058DA17
引用特許:
審査官引用 (3件)
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ウェハ研磨装置用テーブル
公報種別:公開公報
出願番号:特願2000-288732
出願人:イビデン株式会社
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ポリッシング装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平6-339168
出願人:株式会社荏原製作所
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ポリッシング装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願2003-126955
出願人:株式会社荏原製作所
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