特許
J-GLOBAL ID:200903047011174720
ポリッシング装置
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (4件):
渡邉 勇
, 堀田 信太郎
, 小杉 良二
, 森 友宏
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2003-126955
公開番号(公開出願番号):特開2004-330326
出願日: 2003年05月02日
公開日(公表日): 2004年11月25日
要約:
【課題】研磨テーブルの上面に配置される研磨パッドの交換作業を効率的に行うことができるポリッシング装置を提供する。【解決手段】研磨テーブル20と、研磨テーブル20の上部に取り付けられた研磨工具1とを有し、研磨工具1に研磨液Qを供給しながら研磨対象物Wを研磨工具1に摺接させて研磨するポリッシング装置であって、研磨テーブル20の上面に開口する流体流路40を設け、流体流路40内に真空を形成することにより研磨工具1を研磨テーブル20に固定する。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
研磨テーブルと、該研磨テーブルの上部に取り付けられた研磨工具とを有し、前記研磨工具に研磨液を供給しながら研磨対象物を前記研磨工具に摺接させて研磨するポリッシング装置であって、
前記研磨テーブルの上面に開口する流体流路を設け、前記流体流路内に真空を形成することにより前記研磨工具を前記研磨テーブルに固定することを特徴とするポリッシング装置。
IPC (4件):
B24B37/04
, B24B37/00
, B24B41/047
, H01L21/304
FI (4件):
B24B37/04 A
, B24B37/00 C
, B24B41/047
, H01L21/304 622F
Fターム (8件):
3C034AA19
, 3C034BB51
, 3C034DD10
, 3C058AA07
, 3C058AA14
, 3C058CB01
, 3C058CB03
, 3C058DA17
引用特許:
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