特許
J-GLOBAL ID：201103016769127787
無電解めっき方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
小池 晃
, 田村 榮一
, 伊賀 誠司
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-345267
公開番号（公開出願番号）：特開2003-147539
特許番号：特許第3857108号
出願日： 2001年11月09日
公開日（公表日）： 2003年05月21日
請求項（抜粋）：
【請求項1】微小孔及び/又は表面の複雑な微細構造を有する被処理材に無電解めっきを施すための処理液を充填した複数の処理槽と、
上記複数の処理槽が収納される密閉可能な密閉チャンバーと、
この密閉チャンバー内を減圧状態にする減圧手段と、
上記被処理材を運搬する運搬手段とを備える液相表面処理装置が用いられ、
上記被処理材を脱脂処理液中に浸漬し、上記減圧手段によって上記密閉チャンバー内を減圧状態にして上記被処理材に脱脂処理を施し、
上記脱脂処理された被処理材を純水中に浸漬し、上記減圧手段によって上記密閉チャンバー内を減圧状態にして上記被処理材に第1の純水洗浄処理を施し、
上記第1の純水洗浄処理された被処理材を酸性溶液中に浸漬し、上記減圧手段によって上記密閉チャンバー内を減圧状態にして上記被処理材に酸洗浄処理を施し、
上記酸洗浄処理された被処理材をアルカリ溶液中に浸漬し、上記減圧手段によって上記密閉チャンバー内を減圧状態にして上記被処理材に中和処理を施し、
上記中和処理された被処理材をめっき液中に浸漬し、上記減圧手段によって上記密閉チャンバー内を減圧状態にして上記被処理材にめっき処理を施し、
上記めっき処理された被処理材を純水中に浸漬し、上記減圧手段によって上記密閉チャンバー内を減圧状態にして上記被処理材に第2の純水洗浄処理を施す
ことを特徴とする無電解めっき方法。
IPC (2件)：
C23C 18/31 ( 200 6.01)
, C23C 18/18 ( 200 6.01)
C23C 18/31 E
, C23C 18/18
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (5件)
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