特許
J-GLOBAL ID:201103016864724733

電子放出素子、電子源、及び画像形成装置の製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 山下 穣平
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-217950
特許番号:特許第3102787号
出願日: 1999年07月30日
請求項(抜粋):
【請求項1】 電子放出素子の製造方法は、A) 基体上に、高分子と導電性材料との混合膜で且つ導電性を有する導電性有機膜を形成する工程、B) 前記導電性有機膜に、電流を流すことで、前記導電性有機膜の一部に間隙と炭化領域とを形成する工程、を有することを特徴とする導電性有機膜の一部に間隙を有する電子放出素子の製造方法。
IPC (1件):
H01J 9/02
FI (1件):
H01J 9/02 E
引用特許:
審査官引用 (4件)
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