特許

J-GLOBAL ID：201103017101750152

プラズマ処理装置用石英部材の加工方法,プラズマ処理装置用石英部材およびプラズマ処理装置用石英部材が実装されたプラズマ処理装置

発明者： 杉山 智一 ,  三枝 秀仁 ,  岡山 信幸 ,  飯室 俊一 ,  今福 光祐 ,  長山 将之 ,  三橋 康至 ,  中山 博之 ,  黄 亜輝
出願人/特許権者： 東京エレクトロン株式会社
代理人 (3件)： 亀谷 美明 ,  金本 哲男 ,  萩原 康司
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-332462
公開番号（公開出願番号）：特開2003-174017
特許番号：特許第4034543号
出願日： 2001年10月30日
公開日（公表日）： 2003年06月20日
請求項（抜粋）：

【請求項1】 処理室内に励起されたプラズマにより被処理体に対して所定の処理を行うプラズマ処理装置に実装され,前記処理室内に露出する露出面を有する石英部材の表面加工方法であって, 前記石英部材の露出面は,ファイアーポリッシュによる加工後に,酸によるウエットエッチング処理が行われることを特徴とする,プラズマ処理装置用石英部材の加工方法。

IPC (2件)：

H01L 21/3065 ( 200 6.01) ,  H05H 1/46 ( 200 6.01)

FI (2件)：

H01L 21/302 101 G ,  H05H 1/46 A

引用特許：

審査官引用 (2件)

• エッチングまたは析出のためのプラズマ利用装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-036196   出願人：信越石英株式会社, ヘレウス・クアルツグラース・ゲゼルシャフト・ミット・ベシュレンクテル・ハフツング
• 半導体装置用石英ガラス治具およびその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-269300   出願人：旭硝子株式会社