特許
J-GLOBAL ID：201103017936031661

レーザ照射装置及び半導体基板の作製方法

発明者：
下村 明久

下村 明久 について


出願人/特許権者：
株式会社半導体エネルギー研究所

株式会社半導体エネルギー研究所 について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-197200
公開番号（公開出願番号）：特開2011-049398
出願日： 2009年08月27日
公開日（公表日）： 2011年03月10日
要約：
【課題】半導体膜の結晶性若しくは表面の平坦性、又は結晶性及び表面の平坦性を高めることのできるレーザ照射装置を提供することを目的の一とする。【解決手段】レーザ発振器と、レーザ発振器から射出されたレーザ光を線状に成形する光学系と、光学系によって成形された線状のレーザ光が照射される被照射物を載置するステージと、を有し、ステージは、支持台上に、ヒータ、不純物吸着材及び被照射物を載置する載置台が順に固定されているレーザ照射装置を用いて、絶縁表面上に設けられた半導体膜にレーザ光を照射し、半導体膜を結晶化する。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
レーザ発振器と、 前記レーザ発振器から射出されたレーザ光を線状に成形する光学系と、 前記光学系によって成形された線状のレーザ光が照射される被照射物を載置するステージと、を有し、 前記ステージは、支持台上に、ヒータ、不純物吸着材及び前記被照射物を載置する載置台が順に固定されていることを特徴とするレーザ照射装置。
IPC (11件)：
H01L 21/268 ,  H01L 21/265 ,  H01L 21/322 ,  H01L 21/02 ,  H01L 27/12 ,  H01L 21/20 ,  H01L 21/336 ,  H01L 29/786 ,  B23K 26/00 ,  B23K 26/12 ,  B23K 26/14
FI (11件)：
H01L21/268 G ,  H01L21/265 Q ,  H01L21/265 F ,  H01L21/322 X ,  H01L27/12 B ,  H01L27/12 R ,  H01L21/20 ,  H01L29/78 627G ,  B23K26/00 E ,  B23K26/12 ,  B23K26/14 A
Fターム (142件)：
4E068AH01 ,  4E068CA17 ,  4E068CB06 ,  4E068CD05 ,  4E068CE09 ,  4E068CG01 ,  4E068CG02 ,  4E068CH07 ,  4E068CJ01 ,  4E068DA10 ,  5F110AA18 ,  5F110AA26 ,  5F110BB01 ,  5F110BB04 ,  5F110CC02 ,  5F110DD01 ,  5F110DD02 ,  5F110DD03 ,  5F110DD04 ,  5F110DD05 ,  5F110DD07 ,  5F110EE01 ,  5F110EE02 ,  5F110EE03 ,  5F110EE04 ,  5F110EE06 ,  5F110EE09 ,  5F110EE14 ,  5F110EE15 ,  5F110EE23 ,  5F110EE32 ,  5F110EE42 ,  5F110EE44 ,  5F110EE45 ,  5F110FF01 ,  5F110FF02 ,  5F110FF03 ,  5F110FF04 ,  5F110FF09 ,  5F110FF25 ,  5F110FF26 ,  5F110FF28 ,  5F110FF30 ,  5F110GG01 ,  5F110GG02 ,  5F110GG03 ,  5F110GG04 ,  5F110GG25 ,  5F110GG32 ,  5F110GG34 ,  5F110HJ01 ,  5F110HK05 ,  5F110HK40 ,  5F110HL01 ,  5F110HL02 ,  5F110HL03 ,  5F110HL04 ,  5F110HL05 ,  5F110HL06 ,  5F110HL08 ,  5F110HL11 ,  5F110HL12 ,  5F110HL23 ,  5F110HL24 ,  5F110HM15 ,  5F110NN03 ,  5F110NN04 ,  5F110NN22 ,  5F110NN23 ,  5F110NN24 ,  5F110NN25 ,  5F110NN27 ,  5F110NN33 ,  5F110NN35 ,  5F110NN36 ,  5F110PP03 ,  5F110PP04 ,  5F110PP05 ,  5F110PP06 ,  5F110PP10 ,  5F110PP13 ,  5F110QQ02 ,  5F110QQ06 ,  5F110QQ17 ,  5F110QQ23 ,  5F110QQ28 ,  5F152AA01 ,  5F152AA12 ,  5F152AA13 ,  5F152AA14 ,  5F152BB02 ,  5F152CC02 ,  5F152CC03 ,  5F152CC05 ,  5F152CC06 ,  5F152CC08 ,  5F152CD13 ,  5F152CD14 ,  5F152CD15 ,  5F152CE03 ,  5F152CE06 ,  5F152CE07 ,  5F152CE08 ,  5F152CE24 ,  5F152CE29 ,  5F152DD02 ,  5F152DD09 ,  5F152EE10 ,  5F152EE13 ,  5F152EE14 ,  5F152EE16 ,  5F152FF03 ,  5F152FF24 ,  5F152FF28 ,  5F152FF36 ,  5F152FF39 ,  5F152FG01 ,  5F152FG04 ,  5F152FG18 ,  5F152FG23 ,  5F152FG29 ,  5F152FH02 ,  5F152FH03 ,  5F152FH05 ,  5F152LL16 ,  5F152LP01 ,  5F152LP07 ,  5F152MM04 ,  5F152MM19 ,  5F152NN03 ,  5F152NN12 ,  5F152NN13 ,  5F152NN14 ,  5F152NN16 ,  5F152NN19 ,  5F152NP13 ,  5F152NP14 ,  5F152NQ02 ,  5F152NQ03 ,  5F152NQ04 ,  5F152NQ05 ,  5F152NQ06
引用特許：
出願人引用 (8件)
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審査官引用 (8件)
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