特許
J-GLOBAL ID：201103019648227325

面位置検出装置、露光装置、およびデバイス製造方法

発明者：
広岡 道浩

広岡 道浩 について


出願人/特許権者：
キヤノン株式会社

キヤノン株式会社 について


代理人 (2件)： 西山 恵三 ,  内尾 裕一
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-320918
公開番号（公開出願番号）：特開2001-143991
特許番号：特許第4392914号
出願日： 1999年11月11日
公開日（公表日）： 2001年05月25日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 光照射により基板の表面位置を検出する光学式検出手段と、静電容量により基板の表面位置を検出する静電容量式検出手段と、記憶手段と、制御手段と、を有する面位置検出装置であって、 前記制御手段は、基板ロットの先頭の1枚または複数枚の基板の表面の各点に対して前記光学式検出手段および前記静電容量式検出手段に表面位置の検出を行わせ、該検出の結果に基づいて、前記静電容量式検出手段により検出された表面位置に対する各点での補正値を前記記憶手段に記憶させ、前記基板ロット内の他の基板の表面の各点に対して、前記静電容量式検出手段に表面位置の検出を行わせ、該検出により得られた表面位置を前記記憶手段に記憶された対応する補正値により補正する、ことを特徴とする面位置検出装置。
IPC (4件)：
H01L 21/027 ( 200 6.01) ,  G01B 7/00 ( 200 6.01) ,  G01B 11/00 ( 200 6.01) ,  G03F 9/02 ( 200 6.01)
FI (4件)：
H01L 21/30 526 B ,  G01B 7/00 K ,  G01B 11/00 A ,  G03F 9/02 H
引用特許：
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (5件)
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